第440章 光刻機項目：另闢蹊徑

    沐陽研究更新後的閱讀系統兩個多小時才研究透，興奮得睡不著。

    喝了一杯茶，他想看看晶片製造技術的核心設備：光刻機。

    目前市場上，有兩種主流光刻機，一個是duv光刻機，另一個是euv光刻機。

    duv是深紫外線（deep ultraviolet lithography），euv是極深紫外線（extreme ultraviolet lithography）。

    從製程範圍來看，duv基本上只能做到25nm，intel憑藉雙工作檯的模式做到了10nm，但是卻無法達到10nm以下。

    只有euv能滿足10nm以下的晶圓製造，並且還可以向5nm、3nm繼續延伸。

    這個線寬其實就是跟光的線寬有關係，比如可見光的g線，那就是436nm，如果用來刻蝕，線路肯定很寬。

    可以簡單地認為，光刻機的光系統其實就是一支畫筆，不同的光代表不同粗細大小的筆芯，越細的筆（光）能夠畫越細越複雜的畫。

    duv就是彩筆，euv就是中性筆，中性筆畫的線條比較細，比較好用。

    這麼理解，也好理解光刻機到底如何刻蝕電路圖了。

    當前，國外品牌光刻機主要以荷藍asml，島國nikon和canon三大品牌為主。

    euv的價格是1-3億美金/台，duv的價格為2000萬-5000萬美金/台不等。

    目前先進的光刻系統就是euv光刻機，如果沐陽打算走euv光刻機路線，必然繞不開別人的技術專利保護範圍。

    因此，他只能尋找另外光種的光刻機，同時要考慮到光的解析度、對準精度、曝光方式、光源波長、光強均勻性、生產效率等指標。

    就說解析度，如果製作出來的電路圖模糊不清，那晶片肯定不好。

    光刻機其它的指標，也可以比喻成畫筆的性能就行了。

    並不是說，沐陽不能搞光刻機了，只是說，再搞duv和euv光刻機，繞不開以上三家企業的技術專利保護範圍。

    所以，他只能另闢蹊徑。

    很久之前，沐陽就想到過電子束光刻機。

    原本，再過幾年，漂亮國的一個實驗室研發出一套名為zyvexlitho1的光刻系統，基於stm掃描隧道顯微鏡，使用的是ebl (e-beam lithography)電子束光刻方式，製造出了0.7nm線寬的晶片，只是沒法實現批量生產，或者成本高過。

    沐陽相信，如果是技術成熟的電子束光刻機，線寬比0.7nm更小。

    他在系統商店普通貨架上默念搜索「電子束光刻機」，很快，搜索出幾款相關技術。

    沐陽選擇適合自己公司的一款技術：ebl01

    技術參數：

    1.最小線寬：小於1nm

    2.加速電壓：5-500kv

    3.電子束直徑：小於0.5nm

    4.套刻精度：1nm(mean+0.2σ)

    5.拼接精度：1nm(mean+0.2σ)

    6.加工晶圓尺寸：4-18英寸

    7.描電鏡解析度：小於0.2nm

    主要特點：

    1.採用超高亮度和超高穩定性的tfe電子槍；

    2.出色的電子束偏轉控制技術；

    3.採用場尺寸調製技術，電子束定位解析度可達0.0002nm；

    4.採用軸對稱圖形書寫技術，圖形偏角解析度可達0.002mrad；

    5.應用領域廣泛，如微納器件加工，研究用掩膜製造，納米加工（例如單電子器件、量子器件製作等），高頻電子器件中的混合光刻，圖形線寬和圖形位移測量等。

    ……

    需要成就點：300點！

    ……

    沐陽大概看了下簡介，光從技術參數上就看出它的先進性。

    還有更加先進的光刻機，但是，以星海集團目前的條件，買了也造不出來，而且需要的成就點非常多。

    這個ebl01號稱可以製造1nm以下的晶片，但量產成本會比較高。

    因此，當前的情況，星海集團可以從7nm晶片工藝開始，可以保證在2018年之前保持在世界第一地位。

    等競爭對手可以批量搞7nm晶片了，星海集團再推出5nm或3nm晶片。

    有些設備應用，也用不著這麼高端的晶片，28nm晶片工藝足夠，也是未來十年內的主流。

    只是說，沐陽不打算玩什麼中低端晶片。

    另外，沐陽打算弄一些小於1nm的晶片，用於製造量子計算機和超算，這類晶片他打算自用。

    接下來，沐陽確認購買ebl01技術。

    十幾分鐘後，沐陽把ebl01技術吸收完畢。

    他感覺自己對光刻機有了更深入的了解，如今就是實實在在的晶片製造頂尖專家。

    買了光刻機的技術，沐陽還得購買晶片設計技術、晶片設計相關軟體和相關設備。

    這個晶片設計軟體，他就不打算自己研發了，他在晶片軟體設計這一塊是弱點，靠自己研究不知道得花多長時間。

    而且，目前公司形勢嚴峻，一旦漂亮國知道自己公司在搞晶片了，會對星海集團搞各種限制。

    沐陽現在趕時間，同時還有更多更重要的事情需要他親自處理。

    於是，他又花了400點成就點。

    這一晚，沐陽就花了700點成就點，還是有些心疼。

    等吸收完新技術後，沐陽實在有些發困了，回床休息。

    翌日，沐陽是被宋雪