錢賀沒有追問何成打算怎麼解決，因為錢賀其實是比較信任何成的。

    信任達到一定程度後就不會去問太多的東西，靜觀其變就是了。

    兩人都沉默後，微電子研究所的另一名副主任上台致辭，並確定了今天的會議重點是討論技術。

    上一次會議主要是收集行業意見的，所以參會人員更多。

    這一次則是以技術討論為主，今天的討論結果將會成為後續最終確認如何定位光刻機項目的參考依據。

    副主任致辭結束後，主任親自上台先給大家分享了微電子研究所的一些技術發展情況以及一些技術想法。

    然後其他機構和高校代表陸續上台。

    在這個過程中，幾乎每一個代表都會提及一個話題，就是光源突破的問題。

    1999年，是華夏重新審視，重新定位光刻機的關鍵時刻，也是光刻機這個產品本身發展的關鍵時刻。

    因為全球所有的光刻機企業，這會兒都被卡在193nm波長如何突破的問題上了。

    準確來說，大家從1997年開始就被這個問題卡住了，從此，突破193nm之戰，成為了光刻機行業的核心競爭點。

    而1999年，是全球各家光刻機企業陸續決定突破方案的一年，從而促使這一競爭進入了關鍵時期。

    其中包括157nm F2雷射方案，電子束投射方案，離子投射方案，EUV方案和X光方案等等。

    至於最終的戰果，後世的人都很清楚，阿斯麥基於林本堅的思路推出了浸入式光刻機，一舉干翻尼康，從此成為了光刻機市場唯一的霸主。

    這裡有一個很有趣的點在於，浸入式光刻機的核心理論就是在晶圓光刻膠上方加1mm厚的水，然後水可以把193nm的光波長折射成134nm。

    相比於尼康的157nm F2雷射方案，相比於英飛凌的0.00005nm離子投射方案，相比於朗訊實驗室的電子投射方案，這是實現成本最低，實現方式最簡單的方案。

    可就是這樣一個最低廉最簡單方案，最終卻成為了當下的最優方案。

    這也是技術發展有意思的地方之一。

    很多時候，往往是一個簡單的突破點改變了一個影響全世界的產業。

    所以對華夏的這些科研機構和高校來說，大家想要在這個時候重視光刻機的研發，自然繞不開光源突破這個話題。

    而從大家的表述來看，90%以上的人都傾向於尼康的157nm F2雷射方案。

    不過這也很正常，一來，阿斯麥在1999年也還沒有接觸到浸入式光刻機這個思路。

    二來，1999年這會兒，尼康依然是光刻機產業的龍頭企業。

    大家自然都會更信任尼康的方案。

    而且事實上，1999年這會兒，所有光刻機公司不管重點押注的是哪一個方案，都會組建一個專攻157nm F2雷射方案的團隊，包括阿斯麥。

    如果阿斯麥後邊沒有接觸到浸入式光刻機這個想法，他們大概也會繼續死磕157nm F2雷射方案，在這個方案上，阿斯麥跟尼康的差距是明顯的，那麼尼康大概率會成為這個行業的唯一霸主。

    這也是何成在研究歷史的過程中經常會發現的一件事情:很多時候，改變大格局的不是實力，而是運氣。

    但前提是得有一定的實力，才能接得住這份運氣。

    如今的阿斯麥已經是行業老二，所以他接得住這份運氣。

    換做那些即將被市場淘汰的光刻機企業，這個運氣砸在他們頭上也不一定接得住。

    會議現場，除了討論光源方案，自然也少不了鏡頭，工作檯，光刻膠，光掩膜版，光刻氣體等內容。

    可隨著分享的人越來越多，大家都意識到一件事情，現場氛圍越來越壓抑了。