3納米極紫外光？

    檢測光束設備給出的數據反饋讓所有人大吃一驚，3納米的極紫外光束，這豈不是說他們即將具備製造3納米晶片的條件？

    眾所周知，在不考慮《多重曝光技術》的情況下，想要刻出幾納米級的晶片，就要先製造出多少納米的紫外光光源。

    193納米的深紫外光還好說，大自然裡面也能找得到，但13.5納米及以下的極紫外光，那就必須由人為創造。

    深紫外光和極紫外光，和分別對應了DUV光刻機和EUV光刻機，後者現在還處于禁止出口龍國的設備清單裡面。

    一旦這束光源被證實，確實是可以運用於光刻的極紫外光，那麼整個晶片行業都將被顛覆。

    「真是3納米嗎？」

    夏揚神色激動，向前一步。

    他大學雖然學的不是半導體，但這並不代表他不懂晶片製造。

    想要光刻14納米晶片，就要製造13.5納米波長的極紫外光，這在各種半導體諮詢媒體鋪天蓋地宣傳下，早已經人盡皆知。

    3納米波長？

    豈不是能刻3納米晶片？

    雷兵也忍不住上前一步，詢問道：「這束光能用嗎？如果能用是不是意味著我們能造3納米晶片了？」

    現在主流晶片是14納米，無論是龍興科技的SOC上帝晶片，還是蘋果公司的A9s仿生晶片，亦或者說是髙通公司剛剛推出的驍龍821晶片，它們都是14納米製程，根本夠不著3納米的邊邊。

    要是真能造3納米晶片，那可不是小小的科技震撼，而是向整個半導體晶片行業扔了個蘑菇彈，要顛覆整個行業的事情了。

    「不能這樣說。」

    陳星從震撼中回過神，給雷兵與夏揚講解道：「具備光源還不夠，如果真要造3納米晶片，我們還要經歷晶片設計與研製光刻膠。」

    在半導體領域，可不僅僅光刻機和紫外光有納米等級，光刻膠同樣有納米等級區分。

    像目前龍興化工研製的1號光刻膠，它的曝光波長就在193納米，最高支持7納米晶片製造，這還是有多重曝光技術加持的情況下。

    想要製造出3納米晶片，3納米極紫外光、3納米晶片電路設計、3納米曝光波長光刻膠缺一不可，這也是為什麼，晶片納米等級推進緩慢的原因。

    每推進一步，都需要各行業跟進，一旦說光刻膠不行，那有極紫外光和電路設計圖也沒用。

    正因為技術門檻高，大洋彼岸才能用晶片做文章。

    「總裁說得沒錯。」林天也給予了肯定，他回頭看向兩位局長道：「現在說3納米晶片還為時過早，不過我們可以先試試這13.5納米波長的極紫外光，看看它能不能滿足晶片生產需求。」

    「這句話在理。」

    「確實是我們操之過急了。」

    雷兵和夏揚點了點頭。

    他們屬於是懂一點，但並不知道半導體晶片領域可不僅僅只有極紫外光，還有N多的細枝末節，只有全部攻克才能造出晶片。

    「趁著天沒亮，我們儘快測試光束的可行性吧。」陳星提醒一句。

    他們現在可是關了全深城的電力供應，哪怕是凌晨4點鐘，但依然會對城市造成影響。

    「我馬上操作。」

    林天點了點頭回應道。

    剛說完，他立馬看向設備操控台，開始輸入指令，時不時還跑到一側去操作。

    光刻工廠不同於光刻機，它更像是一條完整的自動化流水線，只需要裝填半導體矽片以及光刻膠與配套試劑，輸入指令後就可以進行自動化生產。

    林天在檢驗了十幾束13.5納米波長的極紫外光後，也發現了單色性最好的一條光束，將它設定為1號光刻區域。

    又經過了十分鐘的參數調試，排除外故障情況，林天輸入了確定工作的指令。

    下一秒。

    運輸裝置自動取片。

    存放在特定區域的半導體矽片被靜電吸盤吸起，運送到清洗區域，洗掉附著在半導體矽片表面的灰塵和雜質。

    在清洗完成以後，半導體矽片會通過特殊運輸通道，