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    時間轉眼而逝，初冬的京大已經感覺到寒冷，尤其是在一場小雨過後，寒意像針一樣無孔不入。

    今年的第一場雪，很快就要來了。

    實驗室外寒風習習，實驗室內卻溫暖如春，華科院的八名研究生和曾泉此時內心更是一片火熱。

    他們早早等在實驗室，看到陸隱進來急急迎了上去。

    「陸工！」

    「陸工！」

    「陸工！」

    「是今天嗎！」

    陸隱沒說話，將身上的大衣脫下掛在架子上，神情凝重地掃向面前幾人。

    前幾天他就說過，等數據計算無誤，一切都準備齊全後，就可以開始對1nm光刻機雛形正式進行第一次試驗。

    「都跟我進來一下。」

    陸隱走進辦公室，打開了電腦，指著電腦上的草圖和數據，對幾人說道。

    「不出意外，今天正式開始第一次實驗，但在試驗開始之前，這些數據我需要你們再繼續驗算一遍，數據無誤，我今天就會申請關於材料，材料一到，即可開始著手準備。」

    「是！明白！」

    幾人心中一陣亢奮，齊齊大喊。

    隨即幾人快速將電腦上的草圖和數據一份份拷貝下來，快速回到了自己的工位上，做好試驗研發前的最後一項準備工作。

    幾人走後，陸隱卻坐在電腦前出了神。

    今日對1nm光刻機雛形進行第一次實驗研發，是早就定好的事情，也是必要經過，但他心裡總有些不安。

    這次的實驗過程，實在太過順利了些，他總覺得缺少些什麼，心裡不踏實。

    難道是過程太快？

    陸隱閉目躺在椅子上，意識沉入腦海，在腦中一遍遍回想起關於1nm光刻機的各種程序和步驟。

    光刻機的演進過程十分複雜，但它的核心只圍繞著三個定律。

    一是摩爾定律。

    簡單來說，整個世界都是由「0」和「1」組成，而在晶片裡，表示「0」和「1」的基本元件就是電晶體，電晶體越多，晶片的運算速度就越快。

    摩爾定律的意思就是說，同樣大小的晶片，每隔兩年裡面的電晶體數量就會增加一倍，同理，性能也會增加一倍。

    這就要求晶片製造得越來越精細，如今市面上的晶片已經進化到，要求兩個器件之間，只能有幾個納米的距離了。

    通常來說，造小的東西，核心思想就是放大，舉個例子，像用機械的放大，就像槓桿這類的機械機構原理，但在納米級精度上，機械的方法卻又不夠用了，所以就啟用了「光」。

    那麼光又怎麼放大？

    其實很簡單，投影！

    像是我們日常生活中用到的投影儀，光刻機的核心就是造一個放大的，透光的模子，把想要的形狀印在模子上，光通過模子照射在矽片上，這樣就能製造出小尺寸的東西。

    但因為技術瓶頸，這一項技術十年前就已經不用了。

    目前世界上最先進的技術是「EUV」，這是鬱金香國的ASmL公司用二十年研發出來的。

    說到這，就會引出第二個定律，瑞利判據。

    總的來說，光刻機的研發是個極其複雜且精細的過程，哪怕一點點納米級錯誤，哪怕是一粒灰塵，都會讓整個研發毀於一旦！

    另外還有存放光刻機的廠房，也必須是特殊材料製作，細節非常多，首先第一點，廠房的光必須要求是黃色。

    原因就是光刻膠對短光明顯，用黃色光對於晶圓製造來說就相當於把燈給關了，就像沖膠捲必須要在暗房中一樣。

    且還有一個重要因素，必須要求無塵！

    這也就是為什麼之前曾泉帶領的研究團隊，在花費了數年時間，最終在最後的研發時功虧一簣。

    將所有細節仔細回想一遍後，陸隱照常在心中問道。

    「小A此次1nm光刻機的研發，成功率有多少？」

    【1nm光刻機的研發，成功率百分之95。】

    雖