原理，實際上非常簡單。

    在矽片表面覆蓋一層具有高度光敏感性的光刻膠，再用光線透過掩模照射在矽片表面。

    被光線照射到的光刻膠，會發生反應。

    此後，再用特定的溶劑洗去被照射或未被照射的光刻膠，就實現了電路圖從掩模到矽片的轉移。

    這和華夏古代的印刷術，實際上有一些相似之處，但光刻技術卻比印刷術難了千萬倍。

    一般的光刻步驟，有氣相成底膜、旋轉塗膠、軟烘、曝光、顯影、堅膜。

    接著，就是進行檢測，主要是顯影檢測，讓合規的矽片進入後續的蝕刻流程。

    所謂蝕刻，便是通過化學或物理的方法，有選擇地從矽片表面，除去不需要材料的過程。

    完成之後，就能通過特定溶劑，洗去矽片表面殘餘的光刻膠了。

    當然，這是最簡易的光刻步驟，在實際生產製造中，比這複雜了上百倍。

    從開始光刻，到最後洗去殘餘的光刻膠，幾個步驟，就足足花了三個多小時。

    當然，這裡面也有一些員工剛剛接觸新設備，操作不順手的因素。

    當時間來到下午四點半的時候。

    車間內，一片驚喜和歡騰的景象。

    「出來了，居然真的做出來了！」

    「60nm的電路圖，居然真的被我們轉移到了矽片上。」

    「不可思議啊！全華夏能做60nm晶片的企業，不超過三家，而且全是在18年下半年才剛剛突破的技術，還是在實驗室里！做到量產的話，得到今年年底，甚至是明年年初去了。」

    「是啊，而我們現在，卻擁有了一台可以量產60nm晶片的光刻機，如果操作熟練了，速度提上去，再進行交替光刻，一天至少可以造上數百片12寸的圓晶啊！」

    「這是一個突破，了不起的突破，如果我們把這裡發生的事情，宣布出去，足以震驚整個華夏，乃至是中央都要被驚動！」

    華夏在半導體行業，被壓了太多年了。

    從上個世紀以來，就一直跟在西方國家的屁股後面跑，說是向人家乞討技術也不為過。

    雖然60nm晶片的量產，和45nm晶片的量產，還有一定的差距。

    但是，在工藝水平上，也能證明華夏沒比inter等落後太多了。

    這是一個十分漲士氣的突破。

    一旁，劉元龍沉聲道：「各位，你們難道沒有意識到嗎？剛才我們用的，只是這台光刻機最底線的精度！」

    這話一出，幾名興奮的傢伙，立刻止住了話音，轉而張了張嘴巴，眼睛立刻掙得大大的。

    「是啊，剛才用的還是最低的精度！」

    「沒錯，往上一個刻度的話，豈不是意味著……45nm甚至32nm的晶片也有可能了？」

    「不對，我之前看過一篇學術報告，euv光刻技術的真正領域，是32nm，不，是22nm以下的領域！」

    「22nm以下，這……這也太瘋狂了吧。」

    「……」